资讯篇：中湖州落站TCL五款电视成功斩获中国好电视殊荣树立优秀典范国内电视领军企业TCL在2015中国好电视新闻发布会上荣获中国好电视殊荣，中湖州落站旗下的五款电视均成功斩获获选2015中国好电视，分别包括高端旗舰机型量子点曲面Q55H8800S-CUDS;高性价比机型超薄曲面L55C1-SCUD、曲面L55H8800A-CUDS;热门畅销机型曲面L55H8800A-CF、4K电视L55E5800A-UD，成为业内入围最多产品的企业之一，树立了中国电视的优秀典范。

另外，核集将材料用氧等离子体（O2plasma）预处理，核集可以增强其电催化析氢反应效率，原因是化学刻蚀首先发生在O2plasma预处理制造的随机缺陷位点，将MoS2表面刻蚀成大量均一的三角形刻蚀坑，从而增加了材料表面的氢离子吸附位点。团旗【图文导读】图1NaClO溶液化学活化的MoS2纳米片结构表征（a）NaClO溶液化学活化MoS2纳米片的示意图。

图2MoS2经NaClO化学活化后边缘形态分析（a）NaClO化学活化后，司拟MoS2边缘形态的AFM图像。南永能电本文由材料人编辑部张金洋编译整理。地储（f）刻蚀长度与时间的关系图。

中湖州落站（d）MoS2纳米片在化学刻蚀前后及刻蚀后边缘和基面区域的拉曼光谱比较图（插图：405cm-1处的拉曼强度映射图）。核集图3O2plasma预处理对MoS2刻蚀的作用分析（a）O2plasma在MoS2基面上制造缺陷示意图。

团旗（b）图a样品的塔菲尔曲线图。

（c）顶视图观察，司拟刻蚀后边缘椅式结构的MoS2示意图。南永能电本文由材料人编辑部张金洋编译整理。

然而，地储制备具有大量边缘活性位点的单晶MoS2仍然具有挑战性。该化学蚀刻方法为在原子结构修饰TMDs提供了一种新方法，中湖州落站可以调控层状TMDs电化学性质和新型晶体管制造。

【引言】二维层状材料二硫化钼（MoS2）作为一种很有前景的析氢反应(HER)催化剂，核集通常被认为是电解水制氢中铂（Pt）催化剂的良好替代品。图2MoS2经NaClO化学活化后边缘形态分析（a）NaClO化学活化后，团旗MoS2边缘形态的AFM图像。